LA-ICP-MS｜レーザーアブレーション誘導結合プラズマ質量分析

分析概略

LA-ICP-MS（Laser Ablation Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry：レーザーアブレーション誘導結合プラズマ質量分析）はパルスレーザーにより試料を直接アブレーションして質量分析を行う分析手法です。感度に材料中の不純物を分析することができます。

＊各分析手法の分析深さはSMART Chartからご覧いただけます。

対象分野

半導体・エレクトロニクス・自動車・航空宇宙・鉄鋼・先端材料・エネルギー・メディカルデバイス

用途事例

固体試料の化学分析
元素・安定同位体の分析とマッピング
試料の欠陥調査
深さ方向の複数元素検出

原理/特徴

微量成分から主成分に近い高濃度成分まで分析が可能
周期表の大部分の元素の測定が可能。(例外元素：C、N、O、F、Ne、Cl、Ar、Br、Kr、Tc、Xe、Pm、Po、At、Rn、Fr、Ra、Ac、Pa）
深さ方向分解能：〜1um
測定スポットサイズ：5～200um
検出下限：数10ppb
前処理不要で非破壊に近い分析が可能
レーザーを用いるため、深さ方向・ライン方向・広範囲方向に分析が可能

装置構成

分析事例

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LA-ICP-MS：ラインスキャン分析	LA-ICP-MS：析出物の成分分析

分析に適した試料量/形状

形状：固体